首页
科研用设备
工业用设备
技术实力
新闻动态
关于我们
联系我们
约瑟夫森结 JEB
电子束蒸发 E-beam
磁控溅射 SPUTTER
脉冲激光沉积 PLD
分子束外延 MBE
离子束溅射 IBSD
ALD/CVD
刻蚀系统
超高真空整合系统
系统监控组件
物理气相沉积系统
激光加热器
超高真空零组件
科研用设备
约瑟夫森结 JEB
电子束蒸发 E-beam
磁控溅射 SPUTTER
脉冲激光沉积 PLD
分子束外延 MBE
离子束溅射 IBSD
ALD/CVD
刻蚀系统
超高真空整合系统
系统监控组件
物理气相沉积系统
激光加热器
超高真空零组件
MBE分子束磊晶法
超高真空分子束外延系统MBE-8
超高真空分子束外延系统 MBE-10