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磁控溅射-Batch
连续式溅射系统
电子束蒸发系统
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2023
10-17
Sputter-500CIR
MAIN SPECIFICATIONS:Cathode Capabillity:-3 Rectangular Sputter Cathodes (450mm X 75mm) -1 Rectangular Ion Source( or Sputter)Sample Capabillity-Mor